Платим блогерам
Редакция
Новости Hardware GreenCo
Уверенный взгляд в будущее.

реклама

Нидерландский производитель оборудования для полупроводниковой литографии компания ASML сообщил, что хорошие финансовые показатели в третьем квартале календарного 2017 года позволяют надеяться на 25-% рост годовой выручки. В этом компании помог как возросший спрос на 193-нм сканеры, так и выполнение заказов по выпуску EUV-сканеров. В отчётном квартале ASML поставила клиентам три EUV-установки Twinscan NXE:3400B, добавив это число к уже шести поставленным за этот год EUV-сканерам. Данные сканеры, как считается, помогут с организацией массового производства полупроводников с нормами 7 нм и 5 нм.

Всего на конец третьего квартала компания располагает заказами на 23 EUV-установки. На конец второго квартала было заказано 27 установок (кто-то от одной отказался?). Также достигнут прогресс в создании новых защитных плёнок для фотомасок, которые интенсивно разрушаются под воздействием EUV-излучения. Новое защитное покрытие, как утверждают в ASML, способно выдержать излучение от источников мощностью 250 Вт. В дополнение к этому ASML совместно с дочерней тайваньской компанией Hermes Microvision (она приобретена год назад за $3,1 млрд) представила первый совместный продукт — набор метрологических инструментов ePfm5 для поиска дефектов проецирования.

реклама

Если говорить о деньгах, то в отчётный квартал компания ASML выручила 2,45 млрд евро (примерно $2,9 млрд) — это на 17 % больше, чем во втором квартале. Чистая прибыль компании в третьем квартале достигла 557 млн евро или $657 млн, что составило по этому показателю 20-% прирост за один квартал. В четвёртом квартале ASML рассчитывает выручить чуть меньше — 2,1 млрд евро ($2,48 млрд). Неплохой рост компания ожидает также в 2018 году, поскольку её книга заказов на оборудование заполнена заявками на 193-нм и 13,5-нм (EUV) сканеры.

Написать комментарий (0)

Сейчас обсуждают