Intel Core i3 8100 box
3.6 ГГц, Coffee Lake
Цена 8'750 руб.
28'' Samsung U28E590D
Монитор ЖК
Цена 18'280 руб.
ASUS GeForce GTX 1070
DUAL-GTX1070-8G
Цена 37'300 руб.

Сервера размещены в Летняя миграция

Мобильные устройства
Конференция
Персональные страницы
Wiki
Статистика разгона CPU (+1 за неделю, всего: 27031) RSS     



Объявления компаний (реклама) и анонсы
  • Сверхдешевая GTX 1080 по цене 1070. Делай заказ!
  • RX 580 - нереальный рост цен, лучше этого не видеть

Вы можете отметить интересные вам фрагменты текста,
которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.

Intel может отказаться от гонки за EUV-литографией

GreenCo 11.10.2017 08:34 ссылка на материал | версия для печати | обсуждение | архив

Гонка за EUV-литографией входит в стадию, близкую к финальной. Производитель сканеров — компания ASML — ранее в текущем году заявила о заключении договоров на поставку ряду неназванных заказчиков 21 установки NXE:3400B. Сканеры NXE:3400B стали первыми установками, квалифицированными как годными для организации коммерческого производства полупроводников. Мощность источника излучения сканеров поднята до 250 Вт. Это позволяет каждый час обрабатывать до 125 300-мм пластин. На сборку каждой установки уходит 21 месяц. До конца года производитель планирует собрать 8-9 сканеров. Некоторой проблемой, если верить источникам, служит дефицит оптических систем компании Carl Zeiss. Поставки линз, точнее — зеркал, ограничены и возможности нарастить их нет.

Тем не менее, компании Samsung и TSMC намерены внедрить использование EUV-проекции в коммерческое производство как можно раньше. Первой это обещает сделать компания Samsung. Уже в 2018 году с прицелом на выпуск продуктов с использованием первого поколения 7-нм техпроцесса Samsung начнёт коммерческую эксплуатацию EUV-сканеров. Компания TSMC последует за ней в 2019 году, начав эксплуатацию EUV-сканеров со второго поколения 7-нм техпроцесса. Это поможет снизить число фотошаблонов для изготовления каждого критического слоя чипа до одного-двух вместо тех шести и даже семи фотошаблонов, которые необходимы сегодня для выпуска самых передовых решений.

Компания Intel, как уверяют анонимные источники, может отказаться от гонки за EUV-литографией. В то же время она якобы больше других приобрела опытных сканеров, которые ASML выпускала до настоящего момента. Всего ASML выпустила 14 установок с малой мощностью излучателей (в принципе, все они или значительная часть из них могут быть модернизированы). Намерение Intel отказаться от гонки за EUV-производством источник видит в том, что компания не ведёт переговоры о расширении закупок сырья для производства сверх тех объёмов, которые она закупает в настоящий момент. Компании Samsung и TSMC, надо полагать, такие переговоры уже ведут.

В оправдание Intel надо признать, что компании особенно некуда спешить. Для выпуска x86-совместимых процессоров наработанных технологий и техпроцессов пока достаточно и они коммерчески оправданы даже для использования сверх пяти фотошаблонов на один слой. Процессоры компания Intel продаёт по такой цене, которые покрывают затраты и позволяют оставаться в прибыли. Для компаний Samsung и TSMC ситуация иная. Им необходимо предоставить скидки главным партнёрам в лице Apple и Qualcomm, чипы которых стоят гораздо меньше, чем процессоры Intel. Для них EUV-литография обещает стать тем инструментом, который существенно улучшит себестоимость решений.

Оцените материал →

Объявления компаний (реклама) и анонсы
  • GTX 1070 Ti дешевле `обычной` 1070
  • ЕЩЕ одна 1070 Ti дешевле обычной 1070
  • МЕГАсуперцена на GTX 1060 в Регарде




Обсуждение ВКонтакте (скрыть)