В последние годы разработка сканеров для литографического производства полупроводников неразрывно связана с нидерландской компанией ASML. Она не только разрабатывает саму установку, но также приобрела ранее независимого разработчика источников излучения — компанию Cymer (о сделке было объявлено в 2012 году). Японцы, как сообщается, тоже работают над самостоятельной программой по созданию мощного источника EUV-излучения. В Японии этим занимается компания Gigaphoton. Компания Gigaphoton — это сильный представитель в регионе. По её словам, ей принадлежит 50% рынка литографических установок на основе эксимерных ArF-лазеров на Тайване и в Южной Корее.

По уверениям представителей ASML, источники излучения Gigaphoton пока не превосходят по производительности источники Cymer. Новые сканеры ASML, которые будут отправлены заказчикам до конца текущего года, будут оборудованы источниками излучения мощностью 125 Вт. Актуальные EUV-сканеры несут источники излучения мощностью 80 Вт. Компания Gigaphoton совместно с компанией Mitsubishi Electric сообщила о разработке углекислотного лазера мощностью 118 Вт. И Cymer и Gigaphoton при этом в перспективе обещают создание 250-Вт EUV-источника, что требуется для полноценного коммерческого производства с использованием излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне.

В ASML подтвердили, что источники излучения Gigaphoton конструктивно совместимы со сканерами компании и в случае удачной разработки могут устанавливаться в коммерческие продукты ASML. Подробнее о достижениях компании Gigaphoton будет рассказано на конференции Photonics West, котрая пройдёт в Сан-Франциско с 28 января по 2 февраля. Также на конференции будет рассказано о разработке гибридных датчиков изображения центра Imec и компании M-Squared Lasers Ltd (две отдельные разработки), лазерных 3D-принтерах, сканировании мозга и вселенной. Надеемся, о чём-то интересном мы сможем рассказать подробнее.