Вчера главный технический директор Intel, Джастин Раттнер (Justin Rattner), рассказал, что освоение 14 нм литографической технологии идёт в соответствии с графиком, а фабрики будут переведены на выпуск соответствующей продукции в ближайшие один-два года, пишет сайт Digitimes. Раттнер добавил, что научно-технические достижения Intel позволят продлить действие закона Мура ещё на десять лет.

В конце 2013 года начнётся выпуск процессоров и однокристальных систем по 14 нм технологическим нормам. Производство будет сосредоточено на фабриках в Орегоне (D1X) и Аризоне (Fab 42), а также на заводе Fab 24 в Ирландии. Впоследствии, начиная с 2015 года, эти объекты будут постепенно переводиться на 10, 7 и 5 нм литографию.

Между тем, Intel совместно с партнёрами работает над внедрением в производство кремниевых пластин типоразмера 450 миллиметров. В частности, гигант вложил средства в технологии литографии в глубоком ультрафиолете компании ASML, предполагающие использование пластин соответствующего размера.

Другие компании, чья деятельность связана с производством микросхем, пока не могут угнаться за Intel по темпам освоения новых технологий. Например, в 2013 году Samsung только освоит массовое производство по 20 нм нормам, хотя работы над 14 нм технологией в Южной Корее уже ведутся. TSMC приступит к выпуску небольшого объёма 20 нм продукции только во второй половине 2013 года, а Globalfoundries наладит массовый выпуск микросхем по 14 нм технологии только в 2014 году.