Со страниц блога Tech Trader Daily эксперты Linley Group утверждают, что преимущество Intel в литографических технологиях, которым она долгие годы гордилась, тает на глазах, а к 2021 году оно и вовсе может превратиться в отставание. Тем более, что главные конкуренты могут раньше Intel начать использовать литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) в масштабах серийного производства.

Доводы Linley Group базируются на сравнении параметров 7-нм техпроцесса конкурентов и 10-нм техпроцесса Intel. Различия в плотности размещения транзисторов и их быстродействии не столь велики, приходят к выводу авторы аналитической записки. Под конкурентами в данном случае подразумеваются TSMC, Samsung и Globalfoundries. Об их усилиях по освоению новых литографических технологий мы сегодня ещё поговорим в отдельном материале. Авторы убеждены, что в следующем десятилетии конкуренты Intel вырвутся вперёд, и для процессорного гиганта это чревато падением объёмов реализации собственной продукции.

Не все свои продукты Intel выпускает на собственных мощностях. Известно, например, что унаследованные от Nervana ускорители компания собирается выборочно выпускать силами TSMC. Аналогичным образом, последней из компаний будет доверен выпуск 7-нм изделий Mobileye EyeQ5, которые формально тоже считаются продукцией Intel.