Платим блогерам
Редакция
Новости Hardware Алексей Сычёв
EUV-литография будет внедряться в три этапа.

реклама

Коллеги с американского сайта AnandTech опубликовали обширное интервью с техническим директором GlobalFoundries Гэри Пэттоном (Gary Patton), в ходе которого обсуждались многие вопросы, имеющие отношение к перспективным технологическим процессам и особенностям работы с клиентами компании.

Над определением параметров 7-нм техпроцесса и всех его разновидностей специалисты GlobalFoundries работают уже более двух с половиной лет. Компания не сомневается, что его можно будет использовать для производства как мобильных решений, так и высокопроизводительных. Особое внимание будет уделяться внедрению "вертикальных транзисторов", а также компоновкам типа 2.5D и 3D. Они будут внедряться в рамках 14-нм и 12-нм техпроцессов.

реклама

Освоению 7-нм технологии GlobalFoundries тоже уделяет повышенное внимание. Литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) будет внедряться в три этапа, как минимум. Массовое производство 7-нм изделий первого поколения для пары крупнейших клиентов стартует либо в конце этого года, либо в начале следующего. Разработчики ASIC тоже заинтересованы в получении доступа к 7-нм техпроцессу.

По оценкам GlobalFoundries, внедрение EUV-литографии будет способствовать повышению уровня выхода годной продукции, снижению плотности дефектов, а также ускорению выпуска изделий. Как и 14-нм техпроцесс, который до сих пор эволюционирует, 7-нм техпроцесс будет "долгожителем", как отмечает технический директор компании.

Написать комментарий (0)

Сейчас обсуждают