Как и многие другие компании, нидерландская компания ASML тоже провела встречу с инвесторами. Этот производитель чрезвычайно важен для индустрии полупроводников. От качества инструментов ASML будет зависеть святое для отрасли — дальнейшее соблюдение закона Мура. Отдельные компании, такие как Intel и TSMC, в случае производства 10-нм решений откажутся от использования EUV-сканеров. Но в перспективе рано или поздно всем придётся переходить на новое оборудование. В ASML предвкушают, что к 2020 году компания удвоит и утроит годовую выручку, поставляя ежегодно по 50-60 EUV-сканеров.

На встрече официально подтверждено, что в 2015 году TSMC получит два EUV-сканера NXE:3350B. В текущем году компания получила два сканера NXE:3300B, которые будут модернизированы до уровня NXE:3350B. В настоящее время сканеры NXE:3300B оборудованы источником излучения мощностью 80 Вт. Это позволяет за сутки обрабатывать 500 300-мм пластин. Увеличение мощности до 125 Вт позволит обрабатывать порядка 1000 пластин в сутки, а 250-Вт источник даст возможность выйти на коммерчески выгодные объёмы в 1500 пластин в день, что будут означать возможность обрабатывать всеми четырьмя установками TSMC до 180 тысяч пластин в месяц. Произойдёт это, как ожидается, в 2016 году. К тому времени TSMC начнёт пробный выпуск 10-нм полупроводников, хотя на первом этапе, судя по всему, EUV-сканеры будут использоваться для выпуска 16-нм чипов.

По мнению ASML, EUV-сканеры будут выгодны для выпуска всего спектра полупроводников: логики, DRAM-памяти и NAND-флэш (к которой она относит также резистивную память ReRAM). Как оно будет на самом деле, покажет время. Компания Intel, к примеру, даже 7-нм процессоры планирует выпускать с использованием старого оборудования.